NMP-4000 Microwave PECVD气相沉积系统技术参数

NMP-4000 微波等离子体增强化学气相沉积系统（下载宣传册）

NMP-4000 用于沉积单晶金刚石

NMP-4000 微波等离子体增强化学气相沉积系统（下载宣传册）

NMP-4000 用于沉积单晶金刚石

结果表明，在表面存在一层具有强荧光特性的物质，这意味着成功实现了氮掺杂层的形成。

NANO-MASTER NMP-4000 是一款独立式的微波等离子体增强化学气相沉积（CVD）系统，适用于多种应用领域，用于沉积高质量的 CVD 单晶和多晶金刚石。该系统设计用于运行长时间的生产流程，具有高可靠性和高重复性。它符合 CE 和 SEMI 标准，能够处理最大直径为 4 英寸的晶圆。该系统通过 LabVIEW 软件进行 PC 控制，具备三级密码控制的用户授权和触摸屏显示器功能。该系统 自动化且安全联锁，基于配方驱动，配有状态指示器、图形和字母数字显示。

NMP-4000 系统包括：

SIMS（二次离子质谱）结果证实了在一颗钻石上存在两层氮掺杂层。

腔室：14 英寸不锈钢立方体腔室，配有 8 英寸门和 5 英寸窗，安装在不锈钢基板上，打开前门即可方便地接近压盘，腔室壁易于清洁。通过安装在腔室右侧下方的自动装卸装置装卸晶圆。腔室由位于加热压盘上方的二次钟罩腔室组成，带有 5 英寸带遮光帘的微波屏蔽前置视窗（MW 屏蔽前置视窗）以及带有 10 英寸法兰的手动装卸门（8 英寸门）。带有遮光帘的前置视窗（5 英寸）带有微波屏蔽装置。

微波等离子体源（4 种不同类型的等离子体源）：2.45GHz 频率，6 千瓦微波源，配有手动调谐器和耦合器。在从低功率密度到高功率密度的整个过程中，等离子体极其稳定。

4 英寸晶圆的自动装载与卸载：锁存装置、气动隔离门、机械泵和压力计。泵至毫托尔范围，将压下台面的晶圆载具通过气动三柱塞加载，然后将压台面升起并密封在钟罩内。

压台面：4 英寸钼质顶部，电阻加热至最高温度 1000°C，还配有微波等离子体。压台面安装在不锈钢波纹管上，并通过步进电机移动。将提供用于处理小样品的载具。

MFC（质量流量控制器）：六台 MFC（CH4、H2、Ar、三种 N2）的质量流量控制器，配有不锈钢气体管和气动截止阀。这些 MFC 为输送载气或反应气体提供精确的流量控制和监测。在 MFC 出口处放置气动高真空截止阀，以便用户在工艺过程中控制气体选择。用户可通过主系统控制软件访问 MFC 和阀门。通往腔室的所有气体管路均采用不锈钢制成，带有超清洁的轨道焊接 VCR 接头。

气泡器：用于三甲基硼酸酯的 150cc 气泡器，带有加热的气体管路。仪表：宽量程压力计 - 该系统背景压力的测量采用的是爱德华兹 WRG-D（宽量程压力计），其能够涵盖从大气压到 10-9 帕的压强范围。该压力计通过一个 90 度弯头安装在底板下方，以减少沉积并提高压力计的可靠性。皮拉尼 - 爱德华兹 APGX 有源线性对流压力计。为了在工艺过程中监测工艺压力，使用了线性对流压力计。它安装在底板上，能够在工艺过程中监测压力，且对工艺条件的敏感度低于宽量程压力计。

高温计：双波长高温计用于测量晶圆温度。

泵：涡轮分子泵 - 法佩克 ATH 500 MT，磁悬浮，耐腐蚀且加热。涡轮泵通过 ALD 过滤器外壳安装在系统底板下方。ATH 500 MT 的氮气抽气能力为 500 升/秒，并通过主系统控制软件进行控制。