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Kimball Physics离子枪系统或离子源用于表面物理、空间物理、真空物理、电荷中和、检测校准、二次离子质谱和MBE的离子注入。
操作范围
能量范围：10eV至20keV
束流范围：1 nA至2μA
光斑尺寸范围：500μm至25 mm
多功能性
柔性控制器：独立的光纤控制和计量功能，如离子能量、源、电子能量、场控制、提取、聚焦、X-Y偏转和电子电流控制。
碱金属离子源的选择允许不同的离子种类。
演出
束流稳定性：对于碱金属源，在发射电流控制下每小时±1.0%，在没有ECC的情况下预热后每小时±10%。
能量稳定性：满输出时每小时±0.01%，每8小时±0.02%。
作战能力
快速电容束或双栅极脉冲
偏转/光栅
枪装法拉第杯
描述
能量范围：10 eV至1 keV
束流：1 nA至100 nA
光斑尺寸：1毫米至5毫米
工作距离：10毫米至200毫米
安装：2.75英寸CF或可拆卸
功能/选项：可聚焦、变焦镜头、能量范围内的恒定光斑、偏转、光栅、脉冲
其他信息可用。请联系销售人员以获取更多详细信息或定制请求。
Kimball Physics ES-423E（长寿命）六硼化镧（LaB6）阴极是一种高性能、电阻加热的热离子电子源。目前，它被用于许多亮度受限的电子光学系统：SEM、TEM、探针、电子光刻系统等。LaB6的亮度至少比钨高一个数量级，在宽范围的加速电压下提供了 分辨率，使电子显微镜应用中 的细节能够清晰成像。
用于：
扫描电子显微镜
透射电子显微镜
电子光刻系统
电子探针微量分析
X射线显微分析
表面分析
自定义应用程序
功能/选项：
延长使用寿命
在清洁的真空中运行数千小时
稳定性
精密加工碳纤维支架
耐高温性高
高亮度/低能量扩散
<100>定向单晶
最佳质量/高纯度材料
电流密度高达30 A/cm2
工作压力<10-7torr
精确的微平台
的光学性能
受控源大小
可提供标准直径
适用于大多数系统的基座
陶瓷AEI底座或各种显微镜底座
发射表面尺寸适合显微镜使用
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