Optical Associates 曝光系统仪器2000AF

Optical Associates 曝光系统仪器2000AF

OAI 2000型曝光系统可以配置为边缘珠曝光系统（2000SM）或泛光曝光系统（2000 AF）；这两种配置都基于OAI经过时间考验的成熟平台。

2000型曝光系统的两个版本都包括紫外线光源、强度控制电源和机器人基板处理子系统。紫外光源提供可调节强度的光束，发散半角<2.0%。电源的功率范围为200W至2000W。强度控制器传感器直接连接到光源，用于精确的强度监测。机器人基板处理系统由微处理器控制，可以编程以适应各种基板尺寸。荫罩功能使用户能够在非常靠近荫罩的情况下对基板的顶部进行图案化。在25μ的分离度下，这些系统能够达到6μ的分辨率。

在SM配置中，边缘焊道曝光系统提供了一种使用标准荫罩技术去除边缘焊道的经济高效的方法。掩模和基板转换可以快速轻松地完成，增加了这种大批量生产工具的多功能性和产量。

在AF配置中，2000型泛光曝光系统用于增强和/或提升生产和研发环境中的光刻工艺。应用包括光致抗蚀剂稳定和改性、图像反转和PCM工艺。

2012AF型洪水暴露系统为自动洪水暴露提供了一种经济高效的方法。

2012SM型自动边缘焊道曝光系统提供了一种使用标准荫罩技术去除边缘焊道的经济高效的方法。

这两种型号都允许快速有效地更换掩模和基板，增加了这种生产工具的多功能性和高产量。此外，它们的设计可容纳8英寸至300毫米的晶圆，该工具具有自动装载FOUP的功能。

Optical Associates 曝光系统仪器2000AF