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sscooling ThermoRack 1801
半导体制冷器
热电偶架1801
用于等离子蚀刻和其他半应用的更高容量机架式冷却器1800瓦的冷却能力,比相同5U机架式外壳中的ThermoRack 1201多50%
±0.05°C温度稳定性/可重复性
工作范围为-20°C至80°C
专为快速响应而设计
提供标准高流量、中等流量和低流量配置
减少晶圆之间的差异,消除第一晶圆效应
比基于压缩机的冷水机组节能高达80%
采用热电技术,可靠性高,维护成本低
设计简单——只有2个运动部件
消除氟利昂和其他有害制冷剂,以符合新的环境法规
使用更少的设施用水和昂贵的冷却剂,如Fluorinert或Galden
紧凑的尺寸:1台压缩机冷却器的空间内最多可容纳6个TR1801系统
AMAT、LAM、TEL和Hitachi系统可用的通信接口
通用电源-插上电源,即可在世界任何地方使用
等离子蚀刻、等离子灰、CMP和其他工艺的 解决方案
热电偶架1201
用于等离子蚀刻和其他半应用的 机架式冷水机,冷却能力为1200瓦
±0.05°C温度稳定性/可重复性
工作范围为-10°C至80°C
专为快速响应而设计
减少晶圆之间的差异,消除第一晶圆效应
比基于压缩机的冷水机组节能高达80%
采用热电技术,可靠性高,维护成本低
设计简单——只有2个运动部件
消除氟利昂和其他有害制冷剂,以符合新的环境法规
使用更少的设施用水和昂贵的冷却剂,如Fluorinert或Galden
紧凑的尺寸:1台压缩机冷却器的空间内最多可容纳6个TR1201系统
AMAT、LAM、TEL和Hitachi系统可用的通信接口
通用电源-插上电源,即可在世界任何地方使用
等离子蚀刻、等离子灰、CMP和其他工艺的 解决方案
辅助加热器可用于加热65°C以上
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